Institution
Soitec
Company•Bernin, France•
About: Soitec is a company organization based out in Bernin, France. It is known for research contribution in the topics: Layer (electronics) & Silicon on insulator. The organization has 589 authors who have published 1062 publications receiving 13737 citations. The organization is also known as: Soitec (France).
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17 Feb 2021TL;DR: In this paper, a microsensor for detecting ions in a fluid, consisting of a field-effect transistor having a source, a drain, an active region between the source and the drain, and a gate disposed above the active region, is presented.
Abstract: A microsensor for detecting ions in a fluid, comprises: a field-effect transistor having a source, a drain, an active region between the source and the drain, and a gate disposed above the active region, an active layer, in which the active region is formed, a dielectric layer positioned beneath the active layer, a support substrate disposed under the dielectric layer and comprising at least one buried cavity located plumb with the gate of the field-effect transistor in order to receive the fluid.
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15 Feb 2010TL;DR: In this paper, astrategies werden verfahren zum Anpassen des Gitterparameters einer Keimschicht (3) aus verspanntem material, das die folgenden aufeinander-folgendeen Schritte umfasst: a) es wird eine Struktur geschaffen, die eine Keimchicht wird auf ein Tragersubstrat (5) with einem Warmeausdehnungskoe
Abstract: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Anpassen des Gitterparameters einer Keimschicht (3) aus verspanntem Material, das die folgenden aufeinanderfolgenden Schritte umfasst: a) es wird eine Struktur geschaffen, die eine Keimschicht (3) aus verspanntem Material, mit einem Gitterparameter A, einem Nenn-Gitterparameter A n und einem Warmeausdehnungskoeffizienten CTE, eine Schicht (2) niedriger Viskositat und ein Zwischensubstrat (1) mit einem Warmeausdehnungskoeffizienten CTE1 aufweist; b) eine Warmebehandlung wird durchgefuhrt, um die Keimschicht (3) aus verspanntem Material zu entspannen; und c) die Keimschicht (3) wird auf ein Tragersubstrat (5) mit einem Warmeausdehnungskoeffizienten CTE5 ubertragen, wobei das Zwischensubstrat (1) und das Tragersubstrat (5) so gewahlt werden, dass A 1 CTE1 oder A 1 > A n und CTE1 ≥ CTE3 und CTE5 < CTE1.
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05 Sep 2011•
12 Feb 2021TL;DR: In this paper, a micro-capteur (100) was used to detect d'ions dans un fluide, comprenant : • un transistor (5) a effet de champ presentant une source (51), un drain (52), une region active (54) entre la source and le drain, and a grille (53) disposee au-dessus de la region active.
Abstract: L'invention concerne un micro-capteur (100) pour la detection d'ions dans un fluide, comprenant : • un transistor (5) a effet de champ presentant une source (51), un drain (52), une region active (54) entre la source (51) et le drain (52), et une grille (53) disposee au-dessus de la region active (54), • une couche active (4) dans laquelle est formee la region active (54), • une couche dielectrique (3) disposee sous la couche active (4), • un substrat support (1), dispose sous la couche dielectrique (3) et comportant au moins une cavite (2) enterree, localisee a l'aplomb de la grille (53) du transistor (5), pour accueillir le fluide.
Authors
Showing all 590 results
Name | H-index | Papers | Citations |
---|---|---|---|
Michael R. Krames | 65 | 321 | 18448 |
Bich-Yen Nguyen | 47 | 273 | 6557 |
Iuliana Radu | 37 | 237 | 5026 |
George K. Celler | 36 | 233 | 5964 |
Andreas Gombert | 31 | 176 | 3597 |
Fabrice Letertre | 29 | 180 | 2707 |
Bruno Ghyselen | 28 | 175 | 2943 |
Kiyoshi Mitani | 26 | 122 | 1966 |
Bernard Aspar | 25 | 99 | 1910 |
Mariam Sadaka | 25 | 98 | 1780 |
Stefan Degroote | 24 | 93 | 2335 |
Konstantin Bourdelle | 24 | 132 | 2236 |
Joff Derluyn | 23 | 75 | 1877 |
Carlos Mazure | 20 | 151 | 1552 |
Philippe Flatresse | 20 | 73 | 1175 |